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光耦、磁耦、电容式隔离技术的特性

2019-8-29 17:05| 发布者: WangSai| 查看: 1665| 评论: 0

类目:  >  知识库     文档编号: 307

在工业自动化应用中可连接多个系统,这样做有很多好处,但是当这些系统之间存在高压差时,设计人员就需要管理电压不一致问题,其中包括系统接地的较大压差。

解决这些模拟和数字电流隔离挑战的硬件技术包括光学、磁性和电容隔离栅。电流隔离是通过防止电压和接地之间产生电流来分隔电路的行为。

在存在电流隔离情况下,没有直接的传导路径。此类型电路的好处在于,可通过使用光场、磁场或电场,利用电流隔离栅交换模拟或数字信息,而不会在过程中相互干扰或破坏。

为了解决这些问题,可供选择的技术包括光学(LED,光电二极管)、电气(电容器)或磁性(电感器)解决方案。

光耦合需要一个LED和光电二极管。电感耦合需要两个由隔离器隔开的绕组。电容耦合需要两个由隔离器隔开的导体。

 

光电隔离:

在多路数字输入和数字输出接口我们经常使用光电隔离,典型应用电路如下图:


光耦合器包含一个发射器 (LED) 和一个光电二极管(接收器),光隔离的优势是不受电场和磁场的影响。但是,光耦一般传输速率较低,并且具有较高的功耗,同时LED在其使用寿命内会老化,由于发光二极管的物理尺寸限制,光耦隔离器的尺寸难以减少。

 

电感隔离:


电感隔离采用两个上下堆叠的线圈,线圈之间通过介电材料隔离开来。施加交流信号后会产生一个磁场,进而在次级线圈中产生一个电场。电感隔离非常有效,但是磁耦的功耗会随着数据速率增加而增加,它也容易受到磁场的影响。

 

电容隔离:


 

电容隔离元件的构造包括紧密相邻的两块电容板,两板之间夹有电介质。二氧化硅 (SiO2) 材料可植入电容板之间,以产生这种隔离能力。

电容隔离最适合于小空间应用。不受磁场噪声的影响,电容式数字设备消耗的功率较低,同时提供高数据速率和低传播延迟。


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